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EVG将融入纳米压刻光刻技术的HERCULES NIL集成追踪系统

信息来源:q-j.com.cn  时间:2015-09-22  浏览次数:602

  高集成UV纳米压刻光刻技术(UV-NIL)的追踪系统融入了EVG集团在光刻和抗蚀剂处理领域的专业技术;

  这种技术最初应用于光子、MEMS 和NEMS设备上

  2015 年7月7日,奥地利的圣弗洛里安—— 作为MEMS、纳米技术和半导体市场中主要晶片键合和光刻设备供应商的EVG集团今天揭开了高集成追踪系统 的面纱。它将清理、涂光刻胶和烘焙预处理步骤和EVG公司专利SmartNIL™中的大面积纳米压制光刻技术(NIL)应用步骤集合与一个平台上。具备工业领先的生产力和吞吐量的 HERCULES NIL为生产制造大批量的最新光子设备提供了彻底、专门的解决方案 。它通过调整从十几个纳米到几微米大小的压印结构体的尺寸,改变和提升了装置和设备的光感应,应用于制造LED灯和其他设备过程使用的抗反射涂层、颜色、偏光镜、导光板、图形化衬底制备工艺之中。其他快速兴起、应用NIL的设备包括MEMS、NEMS、生物、纳电子设备。

  “HERCULES NIL系统显示了EVG集团提倡的‘发明、创新、实践’这一‘Triple i’理念”,EVG集团的技术执行主管Paul Lindner说,“EVG已经成为NIL设备研发的先驱。在超过十几个年头的研究和持续研发后,如今EVG使NIL技术更加成熟。相比于传统的光学光刻技术,该技术运用于某些设备上有着重要的优势。另外,Hercules NIL系统可以应用于更为广泛的设备,尤其是在光子和生物技术领域,最终能够在大批量生产中作用于NIL的成本和收益上。”

  HERCULES NIL融合了EVG在NIL领域的全方位的专业技术、抗蚀剂处理技术和HVM解决办法,并将其运用于到不匹配吞吐量(每小时生产40个的200毫米的晶片键合)的单一集成系统中。这一系统建立在高度可配置、模块化的平台上。这一平台包含一系列的上光材料和结构体尺寸,使客户能够更加灵活地依照自己的生产需要来进行选择。这一高集成方式也能够将颗粒污染降到最低。

  主要产品属性包括:

  · 全自动的UV-NIL 印刻和低力度分离。

  · 基层直径高达200毫米

  · 全区域印刻覆盖 ,避免由于字段大小限制,在分歩重复的光刻系统中产生的图像拼接错误。

  · 结构体的批量生产低达40纳米,甚至更小 。

  · 最高可实现+/- 1%的涂料均一性,使得在整个晶片键合上的残留层厚度达到最小,并且可加工的结构达到多样化。

  · 提供各式各样的结构体尺寸和形状,包括3-D。

  · 能够应用于粗糙的表面 。

  · 能够制造多功能软模版来延长主压板的使用寿命 。

  现在,EVG的最新的HERCULES NIL系统可以使用了。主要的光学设备制造商已经在其产出大批量产品的生产基地安装并应用该系统。

 

  EVG集团的HERCULES® NIL集成追踪系统为生产制造大批量的最新光子设备提供了全面、专业的UV-NIL解决方案。它将清理、涂光刻胶、烘焙预处理步骤和EVG公司专利SmartNIL™中的大面积纳米压制光刻技术应用步骤集合于一个平台上。

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